| 释义 |
photoetching 英fəʊtə'ʊettʃɪŋ美fəʊtə'ʊettʃɪŋ
基本例句
光刻法,光刻,光蚀刻,光刻蚀,照相腐蚀法
The invention discloses a method for determining the optimal object plane and the optimal image surface of aphotoetchingprojecting device, and the relevant device thereof.本发明公开了一种确定光刻投影装置最佳物面和最佳像面的方法及相关装置。 |